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                        什么是低温吸附?

                                 低温吸附以电解氢或纯度为99.9%的工业氢为原料,采用低温吸附法,可以制取纯度99,999%-99,9999%的高纯氢和超高纯氢。为使纯化装置连续运行,通常使用两塔流程(图2.7),即一塔吸附,另一塔再生,并按设定周期定时切换。吸附剂的选择原则是既要有较高的杂质吸附量和吸附深度,又要易于再生,鉴于此,一般选用细孔硅胶或活性氧化铝为吸附剂。吸附操作温度80-85K,以液氮作冷源。压力对吸附量的影响与低温冷凝相似,过高的压力将使主组分气氢的吸附量增大,由于共吸附的影响,杂质组分的吸附量反而降低。经验表明,在2.08-4.85MPa(21-49kg/cm2)范围内,有除去氢中一氧化碳、氧、氮等杂质的最大能力。吸附剂再生方法根据综合技经评估确定:若采用常温低压纯氢逆向吹洗,吹洗耗气量约为处理气量的30%-40%,再生时间一般为吸附时间的1;为节原多省再生用氢量,也可以使用经预热后的低压纯氢反吹,耗气量的多少视预热温度而定,通常可降到10%左右,再生时间亦图27低温吸附流程简图相应缩短,但再生冷耗增大;也可以采用先卸压回收死空间氢,再用反吹与抽空结合的方法再生,这样,既节省了气量,又不会产生太大冷损。
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